| | 25/02 | . | выращивание эпитаксиальных слоев [3] |
| | 25/04 | . . | отложение образцов, например с использованием защитных слоев [3] |
| | 25/06 | . . | разбрызгиванием продуктов реакции [3] |
| | 25/08 | . . | реакционные камеры; выбор материалов для них [3] |
| | 25/10 | . . | нагревание реакционной камеры или подложки [3] |
| | 25/12 | . . | держатели или приемники подложек [3] |
| | 25/14 | . . | средства для подачи или выпуска газов; изменение потока реакционноспособных газов [3] |
| | 25/16 | . . | управление или регулирование (управление или регулирование вообще G 05) [3] |
| | 25/18 | . . | характеризуемое подложкой [3] |
| | 25/20 | . . | . | с подложкой из того же материала, что эпитаксиальный слой [3] |
| | 25/22 | . . | способы получения "сэндвичевых" слоев [3] |
ЕАПО > РОСПАТЕНТ
> Международная патентная классификация
МПК7
