| 1/02 | . | устройства для удерживания (ограничения) плазмы электрическим и(или) магнитным полем; устройства для нагрева плазмы (электронная оптика H 01J) |
| 1/03 | . . | с использованием электростатических полей [3] |
| 1/04 | . . | с использованием магнитных полей, образованных разрядами в плазме |
| 1/06 | . . | . | устройства для продольного сжатия канала плазмы |
| 1/08 | . . | . | устройства для "тета" - сжатия канала плазмы |
| 1/10 | . . | с использованием только внешнего магнитного поля |
| 1/11 | . . | . | остроконечной конфигурации (1/14 имеет преимущество) [3] |
| 1/12 | . . | . | в которых камера удерживания плазмы образует замкнутую петлю, например стелларатор |
| 1/14 | . . | . | в которых камера удерживания плазмы прямая и имеет магнитные зеркала |
| 1/16 | . . | с использованием внешних электрических и магнитных полей |
| 1/18 | . . | . | со сверхвысокочастотными полями, например в диапазоне сантиметровых волн |
| 1/20 | . . | резистивный нагрев |
| 1/22 | . . | инжекционный нагрев |
| 1/24 | . | генерирование плазмы [2] |
| 1/26 | . . | плазменные горелки [2] |
| 1/28 | . . | . | устройства для охлаждения [3] |
| 1/30 | . . | . | с использованием внешних электромагнитных полей, например высокой и сверхвысокой частоты ( 1/28 имеет преимущество) [3] |
| 1/32 | . . | . | с использованием дуги (1/28 имеет преимущество) [3] |
| 1/34 | . . | . . | конструктивные элементы, например электроды, сопла [3] |
| 1/36 | . . | . . | . | схемы (1/38,1/40 имеют преимущество) [3] |
| 1/38 | . . | . . | . | направление или центрирование электродов [3] |
| 1/40 | . . | . . | . | с использованием внешних магнитных полей, например для фокусирования или вращения дуги [3] |
| 1/42 | . . | . . | с обеспечением введения материалов в плазму, например порошка, жидкости (электростатическое распыление, распылители с устройствами для образования заряда в распыляемой струе электрическими средствами B 05B 5/00) [3] |
| 1/44 | . . | . . | с использованием более чем одной горелки [3] |
| 1/46 | . . | с использованием внешних электромагнитных полей, например высокой или сверхвысокой частоты (1/26 имеет преимущество) [3] |
| 1/48 | . . | с использованием дуги (1/26 имеет преимущество) [3] |
| 1/50 | . . | . | и с использованием внешних магнитных полей, например для фокусирования или вращения дуги [3] |
| 1/52 | . . | с использованием взрывающихся проводов или разрядников (1/26 имеет преимущество; разрядники вообще H 01T) [3] |
| 1/54 | . | ускорители плазмы [3] |