В начало Российская ФедерацияРоссийская Федерация РОСПАТЕНТ
English

Российская Федерация Российская Федерация
H05H 1/00 - Получение плазмы; управление плазмой (использование плазменной техники в термоядерных ректорах G 21B 1/00)
 1/02устройства для удерживания (ограничения) плазмы электрическим и(или) магнитным полем; устройства для нагрева плазмы (электронная оптика H 01J)
 1/03. . с использованием электростатических полей [3]
 1/04. . с использованием магнитных полей, образованных разрядами в плазме
 1/06. . устройства для продольного сжатия канала плазмы
 1/08. . устройства для "тета" - сжатия канала плазмы
 1/10. . с использованием только внешнего магнитного поля
 1/11. . остроконечной конфигурации (1/14 имеет преимущество) [3]
 1/12. . в которых камера удерживания плазмы образует замкнутую петлю, например стелларатор
 1/14. . в которых камера удерживания плазмы прямая и имеет магнитные зеркала
 1/16. . с использованием внешних электрических и магнитных полей
 1/18. . со сверхвысокочастотными полями, например в диапазоне сантиметровых волн
 1/20. . резистивный нагрев
 1/22. . инжекционный нагрев
 1/24генерирование плазмы [2]
 1/26. . плазменные горелки [2]
 1/28. . устройства для охлаждения [3]
 1/30. . с использованием внешних электромагнитных полей, например высокой и сверхвысокой частоты ( 1/28 имеет преимущество) [3]
 1/32. . с использованием дуги (1/28 имеет преимущество) [3]
 1/34. . . . конструктивные элементы, например электроды, сопла [3]
 1/36. . . . схемы (1/38,1/40 имеют преимущество) [3]
 1/38. . . . направление или центрирование электродов [3]
 1/40. . . . с использованием внешних магнитных полей, например для фокусирования или вращения дуги [3]
 1/42. . . . с обеспечением введения материалов в плазму, например порошка, жидкости (электростатическое распыление, распылители с устройствами для образования заряда в распыляемой струе электрическими средствами B 05B 5/00) [3]
 1/44. . . . с использованием более чем одной горелки [3]
 1/46. . с использованием внешних электромагнитных полей, например высокой или сверхвысокой частоты (1/26 имеет преимущество) [3]
 1/48. . с использованием дуги (1/26 имеет преимущество) [3]
 1/50. . и с использованием внешних магнитных полей, например для фокусирования или вращения дуги [3]
 1/52. . с использованием взрывающихся проводов или разрядников (1/26 имеет преимущество; разрядники вообще H 01T) [3]
 1/54ускорители плазмы [3]
Введение в МПК         Текст МПК8         IPC - English         IPC - France