| | 3/02 | . | электронные пушки |
| | 3/04 | . | ионные пушки |
| | 3/06 | . | с двумя и более пушками, расположенными в одном вакуумном пространстве, например в многолучевых трубках (3/07 имеет преимущество) [2] |
| | 3/07 | . | устройства для управления сходимостью лучей [2] |
| | 3/08 | . | устройства для управления интенсивностью луча или пучка (3/02,3/04 имеют преимущество) |
| | 3/10 | . | устройства для центрирования луча или пучка (3/02,3/04 имеют преимущество) |
| | 3/12 | . | устройства для управления поперечным сечением луча или пучка; устройства для корректировки аберрации пучка, создаваемой, например линзами (3/02,3/04 имеют преимущество) |
| | 3/14 | . | устройства для фокусировки или отражения луча или пучка (3/02,3/04 имеют преимущество) |
| | 3/16 | . . | зеркала |
| | 3/18 | . . | электростатические линзы |
| | 3/20 | . . | магнитные линзы |
| | 3/22 | . . | . | с использованием только электромагнитов |
| | 3/24 | . . | . | с использованием только постоянных магнитов |
| | 3/26 | . | устройства для отклонения луча или пучка (схемы для формирования пилообразных импульсов или других отклоняющих напряжений или токов H 03K) |
| | 3/28 | . . | вдоль прямой линии или вдоль двух взаимно перпендикулярных прямых линий |
| | 3/30 | . . | . | с помощью только электрических полей |
| | 3/32 | . . | . | с помощью только магнитных полей |
| | 3/34 | . . | по окружности, спирали или вращающейся радиальной линии |
| | 3/36 | . | устройства для управления лучом или пучком на участке после прохождения главной отклоняющей системы, например устройства для вторичного ускорения или вторичной фокусировки |
| | 3/38 | . | монтаж, крепление, размещение или изоляция электронно-оптических или ионно-оптических устройств |
| | 3/40 | . | ловушки для удаления или отклонения нежелательных частиц, например отрицательных ионов, краевых электронов; избирательные устройства по скорости или массе |
ЕАПО > РОСПАТЕНТ
> Международная патентная классификация
МПК7
