[RU]

Изобретение относится к способу текстурирования на подложке, включающему нанесение на подложку слоя, способного деформироваться; приведение в контакт этого слоя, способного деформироваться, с текстурированной поверхностью дочернего буфера, введение в мешок из непроницаемого материала подложки, имеющей покрытие, и дочернего буфера, введение мешка и его содержимого в герметичную оболочку; выпуск воздуха из оболочки до достижения давления, равного не более 0,5 бар, запечатывание мешка до повторного введения воздуха в оболочку, введение запечатанного мешка и его содержимого в автоклав, приложение давления от 0,5 до 8 бар и температуры от 25 до 400°С в течение периода от 15 мин до нескольких часов, открытие мешка, затем разделение подложки и дочернего буфера; прозрачный пакет, содержащий стеклянную подложку, покрытую текстурированным слоем, полученную этим способом; применение этого способа для получения подложки, предназначенной для излучения, направления и перенаправления света или сверхгидрофобной или сверхгидрофильной подложки.

(57) Реферат / Формула:

Изобретение относится к способу текстурирования на подложке, включающему нанесение на подложку слоя, способного деформироваться; приведение в контакт этого слоя, способного деформироваться, с текстурированной поверхностью дочернего буфера, введение в мешок из непроницаемого материала подложки, имеющей покрытие, и дочернего буфера, введение мешка и его содержимого в герметичную оболочку; выпуск воздуха из оболочки до достижения давления, равного не более 0,5 бар, запечатывание мешка до повторного введения воздуха в оболочку, введение запечатанного мешка и его содержимого в автоклав, приложение давления от 0,5 до 8 бар и температуры от 25 до 400°С в течение периода от 15 мин до нескольких часов, открытие мешка, затем разделение подложки и дочернего буфера; прозрачный пакет, содержащий стеклянную подложку, покрытую текстурированным слоем, полученную этим способом; применение этого способа для получения подложки, предназначенной для излучения, направления и перенаправления света или сверхгидрофобной или сверхгидрофильной подложки.

---

2420-519870ЕА/085
СПОСОБ ТЕКСТУРИРОВАНИЯ НА ПОДЛОЖКЕ, ИМЕЮЩЕЙ БОЛЬШУЮ ПОВЕРХНОСТЬ
Описание
Изобретение относится к способу текстурирования подложки, имеющей большую поверхность (порядка по меньшей мере м2) , основанному на переносе микро- (от 5 до 100 мкм), мезо- (от 1 до 5 мкм) и/или наноскопического (от 10 до 1000 нм) рисунка с буфера (или маски) в слой, нанесенный на поверхность подложки (Nanoimprint lithography - NIL, нанопечать или рельефное тиснение).
Использование текучей среды под давлением для придавливания буфера к подложке позволяет избежать ограничений, обычно наблюдаемых при текстурировании подложек большого размера с использованием механического пресса. Эти ограничения связаны главным образом с недостатком плоскостности буфера и подложки, которого невозможно устранить. Когда буфер и подложка находятся между жесткими пластинами механического пресса, недостатки плоскостности приводят к изменению давления, оказываемого буфером на подложку, и, следовательно, к изменению глубины перенесенных рисунков. Могут возникать зоны, в которых отсутствует контакт между буфером и подложкой, следовательно, отсутствует перенос рисунка. Это явление усиливается на поверхности, подлежащей текстурированию. В той мере, в которой давление, оказываемое текучей средой, является изостатическим, проблема равновесия сил при использовании механического пресса больше не возникает. Сегодня это становится привилегированной технологией в области печати NIL. Давление оказывается однородно на всю поверхность буфера и позволяет однородно деформировать слой.
Можно использовать разные методы для передачи давления текучей среды буферу и/или подложке. Речь может идти об оболочке под давлением, гибкой мембране, передающих давление текучей среды или подвергнутых давлению потоков текучих сред посредством отверстий, расположенных вдоль контактной поверхности.
Тем не менее, эта технология была изначально и остается
главным образом предназначенной для микроэлектронной промышленности, ее не адаптировали для изделий из стекла:
использованные способы требуют главным образом
специфических устройств, предназначенных для этого
использования;
- размер подложек, имеющих большую поверхность, остается малым по сравнению с масштабом стеклянных изделий (несколько квадратных метров);
приведение в контакт подложки, имеющей покрытие, и буфера является важнейшим и требует специальных технологий.
Авторы изобретения поставили перед собой цель разработать
способ для применения в стекольной промышленности,
обеспечивающий совершенно равномерное по глубине
текстурирование, в зависимости от рисунка, от нескольких десятков до нескольких сот нанометров, например, на подложке, имеющей большую поверхность.
Эта цель была достигнута изобретением, объектом которого, следовательно, является способ текстурирования подложки, отличающийся тем, что он включает:
- нанесение на подложку слоя, способного деформироваться;
приведение в контакт этого слоя, способного деформироваться, с текстурированной поверхностью дочернего буфера,
- введение в мешок из непроницаемого материала подложки, имеющей покрытие, и дочернего буфера,
- введение мешка и его содержимого в герметичную оболочку;
выпуск воздуха из оболочки до достижения давления, равного не более 0,5 бар и до значений, равных не более 5 мбар,
запечатывание мешка до повторного введения воздуха в оболочку,
введение запечатанного мешка и его содержимого в автоклав,
- приложение давления от 0,5 до 8 бар и температуры от 2 5 до 400°С в течение периода от 15 минут до нескольких часов,
- открытие мешка, затем
- разделение подложки и дочернего буфера.
Текстурирование, полученное по изобретению, имеет размеры от 10 нм до 100 мкм (глубина впадин, высота выпуклостей, ширина/диаметр выпуклостей, ширина впадин..), даже до значений в несколько сантиметров: "стена" размером 10 мкм х 10 мкм х 4 мкм.
Этим способом можно текстурировать поверхности по меньшей мере порядка от одного квадратного метра до размеров листового стекла, называемого Pleine Largeur Float (PLF), т.е. в частности 3 м х б м.
Способы нанесения слоя, способного деформироваться, на подложку неограничены. Применяют нанесение жидкости (слоистая пропитка, распыление -spray coating-, нанесение покрытия погружением -dip coating-, покрытие, полученное методом центрифугирования -spin coating-). При слоистой пропитке жидкие предшественники слоя, способного деформироваться, образуют в состоянии покоя взвешенный мениск в щели, из которой их выводят путем перемещения этой щели в поперечное положение над подложкой.
Дочерний буфер называют так, поскольку его получают в результате прессования материала, из которого он состоит, по отношению к матрице. Его текстурированным материалом может являться полимер.
Материал, из которого выполнен мешок, является воздухонепроницаемым.
Воздух из оболочки выводят до достижения давления, равного не более 0,5 бар или в предпочтительно возрастающем порядке 5 мбар, 2 мбар и 1 мбар. Например, воздух из камеры выводят в течение 15 минут до достижения давления порядка 0,5 мбар. Мешок герметично запечатывают прежде, чем повторно ввести воздух в оболочку.
Запечатанный мешок затем помещают в автоклав, позволяющий использовать давление от 0,5 до 8 бар и температуру от 25 до 400°С. Обработка в автоклаве может продолжаться от 15 минут до нескольких часов. Эти параметры следует регулировать в
зависимости от природы слоя, способного деформироваться. Целью здесь является прижатие дочернего буфера к первоначально деформируемому слою, золю-гелю или другому, сшивая его с тем, чтобы сделать его недеформируемым. Таким образом, печатают или закрепляют рисунок, имеющийся на поверхности дочернего буфера, в слое, нанесенном на поверхность подложки. Стадия запечатывания или выпуска воздуха является необходимой с тем, чтобы обеспечить передачу давления текучей среды буферу.
На выходе из автоклава прежде, чем открывать мешок, в нем делают отверстие, и дочерний буфер выводят с поверхности подложки. Затем слой может подвергаться новой тепловой обработке для его сгущения, его кристаллизации (Т1О2, ZnO) и улучшения его механических свойств и/или использования гидрофильно/гидрофобной природы его поверхности.
Способ по изобретению не требует специального оборудования (система помещения в карман и автоклав). Его можно осуществлять при помощи устройств, обычно используемых в стекольной промышленности, в частности, для получения многослойного ветрового стекла или для производства технических стекол, таких как многослойное стекло, в состав которого входит жидкокристаллическая пленка, типа выпускаемого фирмой Saint-Gobain Glass под зарегистрированным товарным знаком Privalite(r).
Поскольку способ можно осуществлять, используя только устройства, уже имеющиеся на производственных линиях, этот способ можно легко внедрить в промышленность и использовать для обработки стекол большого размера.
В способе можно использовать дешевые буферы, такие как текстурированные полимерные листы (полученные в частности технологией roll-to-roll). Если буфер не разрушается в процессе осуществления способа, его можно повторно использовать несколько раз.
В соответствии с предпочтительными признаками способа по изобретению:
слой, способный деформироваться, выполнен из термосшиваемого материала, в частности, материала золь-гель, преимуществом которого является получение слоев с высоким
содержанием неорганических веществ, которые можно подвергать способу закалки листового стекла (образующего подложку); можно назвать кремнезем, оксид титана, цинка, алюминия, индивидуально или в смеси нескольких из указанных оксидов; золь кремнезема предпочтительно получают гидролизом предшественника золь-геля, предпочтительно метилэтоксисилана; важно контролировать условия получения раствора золя-геля так, чтобы слой оставался способным к деформации в ходе осуществления способа;
слой, способный деформироваться, имеет полимерную термопластичную матрицу; можно назвать поли(метилметакрилат) (РИМА), полистирол (PS), поликарбонат (PC), поли(винилхлорид) (PVC), полиамид (РА), полиэтилен (РЕ), полипропилен (РР), индивидуально или смеси или сополимеры нескольких из них;
предшественники слоя, способного деформироваться, содержат наночастицы, такие как Т1О2 (в частности, фотокаталитические) или люминесцентные, например, CdSe, CdS, и/или органические молекулы и/или порогены типа латекса РММА, PS, поверхностно-активного, некоторые из которых возможно предназначены для удаления до получения конечного слоя; можно назвать включение неорганического компонента (наночастиц) в полимерную термопластичную матрицу для улучшения ее тепловой устойчивости или механической прочности (ударопрочности, например) или для регулировки оптических свойств текстурированного слоя или придания ему функциональности;
- текстурированная поверхность дочернего буфера является воздухопроницаемой; следовательно, приведение в контакт на стадии запечатывания не требует особых предосторожностей с тем, чтобы не допустить захвата пузырьков воздуха между подложкой с покрытием и буфером; он может состоять из эластомерного полимера (типа PDMS, EVA, эпоксидного полимера) или стеклообразного полимера или сополимера;
текстурированный слой дочернего буфера выполнен из полимерного материала или органического-неорганического гибрида (полимер) и температуру в автоклаве последовательно доводят до температуры, которая выше, затем ниже температуры стеклования этого полимерного материала, или наоборот; такие условия
обеспечивают точный контроль механического поведения буфера и оптимизацию контакта между буфером и подложкой с покрытием, а также качество репликации структур.
Объектами изобретения также являются:
- прозрачный пакет, имеющий в составе подложку из стекла, покрытого текстурированным слоем, полученную способом, описанным выше; стекло, в частности, является минеральным, таким как флотированное кремний-натрий-кальциевое стекло;
применение способа, описанного выше, для получения подложки, предназначенной для излучения, направления и перенаправления света; речь идет о фотоэлементах, day-lighting (перенаправление солнечного света на потолок помещения посредством адаптированного текстурированного оконного стекла), излучении света для OLED, поляризационных светофильтрах;
применение способа, описанного выше, для получения подложки, предназначенной для микрофлюидных устройств; и
применение способа, описанного выше, для получения
сверхгидрофобной или сверхгидрофильной подложки;
сверхгидрофобную подложку можно в частности получить путем
нанесения на текстурированный слой верхнего слоя золя-геля,
состоящего, например, из гидрофобного агента, такого как
фторированный силан, в частности из известных предшественников
перфторалкилалкил-триалкоксисилана; верхний слой
преимущественно является очень тонким, толщиной не более нескольких нанометров - следовательно, его часто называют мономолекулярным, практически не изменяющим геометрию прилегающей текстуры.
Несколько нижеследующих примеров иллюстрируют изобретение: На Фигуре 1 представлено изображение, полученное сканирующей электронной микроскопией, показывающее текстуру дочернего буфера PET, использованного в нижеследующем примере 1.
На Фигурах 2а и 2Ь представлено изображение, полученное сканирующей электронной микроскопией образца с рельефным тиснением, полученного в нижеследующем примере 1, вид сверху (а) относительно рельефной поверхности и в поперечном разрезе
(b) .
Пример 1: Перенос периодической решетки из микроскопических полусфер в слой кренеземного золя-геля.
Кремнеземный золь получают из смеси метилтриэтоксисилана (выпускаемого фирмой Sigma Aldrich)/уксусной кислоты (Prolabo) в массовом отношении 45/55. Раствор перемешивают при комнатной температуре в течение 12 часов.
Буфер PDMS получают формованием периодической решетки из полусфер, полученной способом интерференционной литографии. Диаметр полусфер составляет 3 мкм, период составляет 5,5 мкм. Формование осуществляют, выливая смесь 10:1 двух компонентов (эластомер:катализатор) SYLGARD(r) 184 SILICONE ELASTOMER KIT, выпускаемого Dow Corning, с выводом остаточных пузырьков воздуха в вакууме с последующей сшивкой эластомера при 8 0°С в течение 4 часов.
Золь наносят методом spin coating (2000 rpm, 1 мин) на стеклянную подложку 2 мм размером 10x10 см2, выпускаемую фирмой Saint-Gobain Glass под зарегистрированным товарным знаком Planilux(r), поверхность которой предварительно очищают полирующим средством Сегох(r). Слой сушат в течение 5 минут при 50°С.
После нанесения текстурированную поверхность буфера PDMS приводят в контакт со слоем кремнеземного золя-геля. Чтобы вывести эти пузырьки воздуха, которые могут нарушить контакт между слоем и маской, образцы помещают в мешок и размещают в герметичной оболочке, из которой удаляют воздух до достижения вакуума при 0,5 мбар. Через 2 0 минут мешок герметично закрывают горячим склеиванием.
Образцы затем помещают в автоклав, в котором их подвергают одновременно подъему температуры до 110°С и давления до 1,7 5 бар (5 мин при 20°С, подъем до 60°С в течение 5 минут, период в течение 10 минут при 60°С, подъем до 110°С в течение 5 минут, период в течение 2 0 минут при 110°С и понижение до 35°С в течение 15 минут; подъем от 0 до 1,7 5 бар в течение 5 минут, период при 1,7 5 бар в течение 4 0 минут, снижение до 0 бар в
течение 15 минут). На выходе из автоклава образцы вынимают из форм в условиях охлаждения.
Перенос рисунка в слой кремнеземного золя-геля характеризуется AFM. Имеется шестиугольная решетка из полусфер. Полученные рисунки подобны тем, которые нанесены на буфер: шириной 3 мкм, высотой 1,5 мкм и с периодом 5,5 мкм.
Пример 2: Перенос периодической решетки из
микроскопических полусфер в слой поли(метилметакрилата)
10% раствор поли(метилметакрилата) (РИМА) в
метилэтилкетоне (МЕК) получают путем смешивания 2 0 г порошкообразного РММА со средним молекулярным весом Mw=120000 (Sigma-Aldrich) со 180 г МЕК (Prolabo).
Буфер PDMS получают формованием периодической решетки из полусфер, полученной способом интерференционной литографии. Диаметр полусфер составляет 3 мкм, период составляет 5,5 мкм. Формование осуществляют, выливая смесь 10:1 двух компонентов (эластомер:катализатор) SYLGARD(r) 184 SILICONE ELASTOMER KIT, выпускаемого Dow Corning, с выводом остаточных пузырьков воздуха в вакууме с последующей сшивкой эластомера при 8 0°С в течение 4 часов.
Раствор РММА наносят методом spin coating (2000 rpm, 1 мин) на стеклянную подложку 2 мм размером 10x10 см2, выпускаемую фирмой Saint-Gobain Glass под зарегистрированным товарным знаком Planilux(r), поверхность которой предварительно очищают полирующим средством Сегох(r).
После нанесения текстурированную поверхность буфера PDMS приводят в контакт со слоем РММА. Чтобы вывести эти пузырьки воздуха, которые могут нарушить контакт между слоем и маской, образцы помещают в мешок и размещают в герметичной оболочке, из которой удаляют воздух до достижения вакуума при 0,5 мбар. После достижения требуемого вакуума мешок герметично закрывают горячим склеиванием.
Образцы затем помещают в автоклав, в котором их подвергают подъему температуры и давления (5 мин при 2 0°С, подъем до 168°С в течение 10 минут, период в течение 15 минут при 168°С и
понижение до 4 0°С в течение 3 0 минут; подъем от 0 до 1 бара в течение 5 минут, период при 1 бар в течение 10 минут, подъем до 3 бар в течение 5 минут, период при 3 бар в течение 3 0 минут, понижение до 0 бар в течение 10 минут).
Перенос рисунка в слой РММА характеризуется AFM. Имеется шестиугольная решетка из полусфер. Полученные рисунки подобны тем, которые нанесены на буфер: шириной 3 мкм, высотой 1,5 мкм и с периодом 5,5 мкм.
Пример 3: Перенос периодической решетки из
микроскопических полусфер в гибридный слой
поли (метилметакрилат) -БЮг
10% раствор поли(метилметакрилата) (РММА) в
метилэтилкетоне (МЕК) получают путем смешивания 2 0 г порошкообразного РММА со средним молекулярным весом Mw=120000 (Sigma-Aldrich) со 180 г МЕК (Prolabo) . 20% масс суспензии наночастиц кремнезема (Nissan Chemical) в МЕК вводят в раствор РММА. Смесь гомогенизируют магнитным перемешиванием в течение 10 минут.
Буфер PDMS получают формованием периодической решетки из полусфер, полученной способом интерференционной литографии. Диаметр полусфер составляет 3 мкм, период составляет 5,5 мкм. Формование осуществляют, выливая смесь 10:1 двух компонентов (эластомер:катализатор) комплекта SYLGARD(r) 184 SILICONE ELASTOMER KIT, выпускаемого Dow Corning, с выводом остаточных пузырьков воздуха в вакууме с последующей сшивкой эластомера при 8 0°С в течение 4 часов.
Раствор частиц кремнезема и РММА наносят методом spin coating (2000 rpm, 1 мин) на стеклянную подложку 2 мм размером 10x10 см2, выпускаемую фирмой Saint-Gobain Glass под зарегистрированным товарным знаком Planilux(r), поверхность которой предварительно очищают полирующим средством Сегох(r).
После нанесения текстурированную поверхность буфера PDMS приводят в контакт с гибридным слоем РММА-ЭЮг- Чтобы вывести эти пузырьки воздуха, которые могут нарушить контакт между слоем и маской, образцы помещают в мешок и размещают в
герметичной оболочке, из которой удаляют воздух до достижения вакуума при 0,5 мбар. После достижения требуемого вакуума мешок герметично закрывают горячим склеиванием.
Образцы затем помещают в автоклав, в котором их подвергают подъему температуры и давления (5 мин при 2 0°С, подъем до 168°С в течение 10 минут, период в течение 15 минут при 168°С, понижение до 4 0°С в течение 3 0 минут; подъем от 0 до 1 бара в течение 5 минут, период при 1 бар в течение 10 минут, подъем до 3 бар в течение 5 минут, период при 3 бар в течение 3 0 минут, снижение до 0 бар в течение 10 минут).
Перенос рисунка в слой РММА характеризуется AFM. Имеется шестиугольная решетка из полусфер. Полученные рисунки подобны тем, которые нанесены на буфер: шириной 3 мкм, высотой 1,5 мкм и с периодом 5,5 мкм.
Пример 4: Перенос полупериодической решетки из
нанометрических выступов в слой кремниевого золя-геля
Кремниевый золь получают из смеси в массовом соотношении 50-50 метилтриэтоксисилана (выпускаемого фирмой Sigma Aldrich) и раствора соляной кислоты с рН=2. Раствор перемешивают при комнатной температуре в течение 2 часов.
Буфер PDMS получают формованием псевдопериодической решетки из выступов, полученной способом электронной литографии в сочетании со способом "step and repeat". Выступы имеют длину 1,2 мкм, ширину 200 нм или 400 нм и высоту 350 нм. Формование осуществляют, выливая смесь 10:1 двух компонентов (эластомер:катализатор) комплекта SYLGARD(r) 184 SILICONE ELASTOMER KIT, выпускаемого Dow Corning, с выводом остаточных пузырьков воздуха в вакууме с последующей сшивкой эластомера при 8 0°С в течение 4 часов.
Кремнеземный золь наносят методом spin coating (2000 rpm, 1 мин) на стеклянную подложку 2 мм размером 10x10 см2, выпускаемую фирмой Saint-Gobain Glass под зарегистрированным товарным знаком Planilux(r), поверхность которой предварительно очищают полирующим средством Сегох(r). Слой сушат в течение 5 минут при 50°С.
После нанесения текстурированную поверхность буфера PDMS приводят в контакт со слоем золя-геля. Чтобы вывести эти пузырьки воздуха, которые могут нарушить контакт между слоем и маской, образцы помещают в мешок и размещают в герметичной оболочке, из которой удаляют воздух до достижения вакуума при 0,5 мбар. После достижения требуемого вакуума мешок герметично закрывают горячим склеиванием.
Образцы затем помещают в автоклав, в котором их подвергают подъему давления и температуры (подъем в течение 5 мин от 2 0°С до 60°С, период в течение 5 минут при 60°С, подъем в течение 5 минут до 13 0°С, период в течение 2 5 минут при 13 0°С, понижение до 4 0°С в течение 2 0 минут; подъем от 0 до 2,5 бара в течение 5 минут, период при 2,5 бар в течение 35 минут, понижение до 0 бар в течение 2 0 минут).
Перенос рисунка в слой кремниевого золя-геля характеризуется AFM. Имеется решетка из выступов, характеризующаяся изменяющейся периодичностью. Полученные рисунки подобны тем, которые нанесены на буфер. Выступы имеют ширину 200 нм и 400 нм, длину 1,2 мкм и высоту 350 нм.
Пример 5: Перенос полупериодической решетки из линий в слой кремния из буфера PET
Кремниевый золь получают из смеси в массовом соотношении 50-50 метилтриэтоксисилана (выпускаемого фирмой Sigma Aldrich) и раствора соляной кислоты с рН=2. Раствор перемешивают при комнатной температуре в течение 2 часов.
В качестве дочерних буферов используют полимерные пленки PET, на которые было наложено покрытие, текстурированное затем методом roll-to-roll. Полимерные пленки имеют формат примерно 10x10 см2 (Фигура 1) . Рисунок этих пленок был разработан для придания им свойства "day lighting" (направление солнечного света на потолок), сохраняя при этом прозрачность PET. Рисунок состоит из решетки, выполненной из линий шириной 2 00 нм при глубине 350 нм (отношение = 1,75) и с периодом, равным 400 нм. Ограничение эффекта преломления осуществляется при помощи помех на уровне периодичности структуры (фигура 1).
Поверхность пленки PET тщательно протирают спиртом при помощи клейких роликов (выпускаемых фирмой Teknek) для устранения всех следов пыли.
Кремнеземный золь наносят методом spin coating (2000 rpm, 1 мин) на стеклянную подложку 2 мм размером 10x10 см2, выпускаемую фирмой Saint-Gobain Glass под зарегистрированным товарным знаком Planilux(r), поверхность которой предварительно очищают полирующим средством Сегох(r). Слой сушат в течение 5 минут при 50°С.
После нанесения текстурированную поверхность буфера PET приводят в контакт со слоем кремниевого золя-геля. Чтобы вывести пузырьки воздуха, которые могут нарушить контакт между слоем и маской, образцы помещают в мешок и размещают в герметичной оболочке, из которой удаляют воздух до достижения вакуума при 0,5 мбар. После достижения требуемого вакуума мешок герметично закрывают горячим склеиванием.
Образцы затем помещают в автоклав, в котором их подвергают подъему давления и температуры (подъем в течение 5 мин от 2 0°С до 60°С, период в течение 5 минут при 60°С, подъем в течение 5 минут до 110°С, период в течение 2 5 минут при 110°С, понижение до 4 0°С в течение 2 0 минут; подъем от 0 до 2 бар в течение 5 минут, период при 2 бар в течение 35 минут, понижение до 0 бар в течение 2 0 минут).
Перенос рисунка в слой кремниевого золя-геля характеризуется сканирующей электронной микроскопией. Имеется решетка из псевдопериодических линий с периодом 4 00 нм. Полученные рисунки подобны тем, которые нанесены на буфер: шириной 2 00 нм и высотой 4 00 нм.
ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ
1. Способ текстурирования на подложке, отличающийся тем, что включает:
- нанесение на подложку слоя, способного деформироваться;
приведение в контакт этого слоя, способного деформироваться, с текстурированной поверхностью дочернего буфера,
- введение в мешок из непроницаемого материала подложки, имеющей покрытие, и дочернего буфера,
- введение мешка и его содержимого в герметичную оболочку;
выпуск воздуха из оболочки до достижения давления, равного не более 0,5 бар,
запечатывание мешка до повторного введения воздуха в оболочку,
введение запечатанного мешка и его содержимого в автоклав,
- приложение давления от 0,5 до 8 бар и температуры от 2 5 до 400°С в течение периода от 15 минут до нескольких часов,
- открытие мешка, затем
- разделение подложки и дочернего буфера.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что слой, способный деформироваться, выполнен из термосшиваемого материала.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что слой, способный деформироваться, имеет термопластичную полимерную матрицу.
4. Способ по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что предшественники слоя, способного деформироваться, содержат наночастицы и/или органические молекулы и/или порогены.
5. Способ по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что текстурированная поверхность дочернего буфера является воздухопроницаемой.
6. Способ по любому из пп.1-5, отличающийся тем, что текстурированная поверхность дочернего буфера выполнена из полимерного материала или органического (полимер) неорганического гибрида и тем, что температуру в автоклаве последовательно доводят до температуры, которая выше, затем
2.
ниже температуры стеклования этого полимерного материала, или наоборот.
7. Применение способа по любому из пп.1-6 для получения подложки, предназначенной для излучения, направления и перенаправления света.
8. Применение способа по любому из пп.1-6 для получения подложки, предназначенной для микрофлюидных устройств.
9. Применение способа по любому из пп.1-6 для получения сверхгидрофобной или сверхгидрофильной подложки.
По доверенности
1/1
519870ЕА