ЕАПО > РОСПАТЕНТ > Международная патентная классификация (IPC2017/H/H04K003.htm.01)

Руководство к МПК Текст МПК (2022.01) Текст МПК (2021.01) Текст МПК (2020.01) Текст МПК (2019.01) Текст МПК (2018.01) Текст МПК (2017.01) Текст МПК (2016.01) Текст МПК (2015.01) Текст МПК (2014.01) Текст МПК (2013.01) Текст МПК (2012.01) Текст МПК (2011.01) Текст МПК (2010.01) Текст МПК (2009.01)  A   B   C   D   E   F   G   H  IPC-English IPC-France

H04K 3/00 - Создание искусственных помех; устранение искусственных помех