| | Примечание: | В этой основной группе применяется правило первой подходящей рубрики, т.е. на каждом иерархическом уровне в случае отсутствия особого указания классифицирование проводится в первой подходящей рубрике. [2012.01] |
|
| | 1/20 | . | маски или бланки масок для формирования изображений с помощью излучения потока заряженных частиц (CPB), например, с помощью электронного потока; их изготовление [2012.01] |
| | 1/22 | . | маски или бланки масок для формирования изображения с помощью излучения с длиной волны 100 нм или меньше, например рентгеновские маски, маски далекого ультрафиолетового диапазона (EUV); их изготовление [2012.01] |
| | 1/24 | . . | отражающие маски; их изготовление [2012.01] |
| | 1/26 | . | маски с фазовым сдвигом (PSM); PSM бланки; их изготовление [2012.01] |
| | 1/28 | . . | PSM c тремя или более разными фазами; их изготовление [2012.01] |
| | 1/29 | . . | кольцевые PSM или откидные PSM; их изготовление [2012.01] |
| | 1/30 | . . | перемежающиеся PSM, e.g. Левинсон-Шибайя PSM; их изготовление [2012.01] |
| | 1/32 | . . | ослабляющие PSM (att-PSM), например полутоновые PSM или PSM с полупрозрачным участком со сдвигом фазы; их изготовление [2012.01] |
| | 1/34 | . . | фазово-кромочные PSM, например бесхромные PSM; их изготовление [2012.01] |
| | 1/36 | . | маски, обладающие свойствами приблизительной коррекции; их изготовление, например процессы оптической коррекции эффекта близости изображения (OPC) [2012.01] |
| | 1/38 | . | маски, обладающие дополнительными особенностями, например специальными покрытиями или отметками для выравнивания или проверки; их изготовление [2012.01] |
| | 1/40 | . . | особенности, относящиеся к электростатическому заряду (ESD), например антистатические покрытия или проводящий металлический слой вокруг периферии подложки маски [2012.01] |
| | 1/42 | . . | особенности выравнивания или регистрации, например отметки выравнивания на подложках [2012.01] |
| | 1/44 | . . | особенности проверки или измерения, например решетчатые шаблоны, фокусирующие мониторы, пилообразные шкалы или шкалы с насечками [2012.01] |
| | 1/46 | . . | антиотражающие покрытия [2012.01] |
| | 1/48 | . . | защитные покрытия [2012.01] |
| | 1/50 | . | бланки масок, не отнесенные к группам G03F 1/20-G03F 1/26; их изготовление [2012.01] |
| | 1/52 | . | отражатели [2012.01] |
| | 1/54 | . | абсорбенты, например матовые материалы [2012.01] |
| | 1/56 | . . | органические абсорбенты, например фоторезисты [2012.01] |
| | 1/58 | . . | с двумя или более разными поглощающими слоями, например многослойный абсорбент со слоями, уложенными в стопку [2012.01] |
| | 1/60 | . | подложки [2012.01] |
| | 1/62 | . | пленки или пакеты пленок, например имеющие мембрану на каркасе подложки; их изготовление [2012.01] |
| | 1/64 | . . | отличающиеся каркасами, например их конструкцией или материалом [2012.01] |
| | 1/66 | . | контейнеры, специально приспособленные для масок, бланков масок или пленок; их изготовление [2012.01] |
| | 1/68 | . | процессы изготовления, не отнесенные к группам G03F 1/20-G03F 1/50 [2012.01] |
| | 1/70 | . . | приспосабливание основного оригинала или рисунка масок к требованиям литографического процесса, например повторный цикл коррекции шаблонов маски для изображения [2012.01
|
| | 1/72 | . . | исправление или коррекция дефектов масок [2012.01] |
| | 1/74 | . . | . | с помощью потока заряженных частиц (CPB), например фокусированного ионного потока [2012.01] |
| | 1/76 | . . | получение шаблонов масок с помощью изображения [2012.01] |
| | 1/78 | . . | . | с помощью потока заряженных частиц (CPB), например электронного потока [2012.01] |
| | 1/80 | . . | травление [2012.01] |
| | 1/82 | . . | вспомогательные процессы, например чистка [2012.01] |
| | 1/84 | . . | . | проверка [2012.01] |
| | 1/86 | . . | . . | с помощью потока заряженных частиц (CPB) [2012.01] |
| | 1/88 | . | полученные с помощью фотографических процессов для производства оригиналов с имитируемым рельефом [2012.01] |
| | 1/90 | . | полученные с помощью процессов монтажа [2012.01] |
| | 1/92 | . | полученные с печатных поверхностей [2012.01] |
ЕАПО >
РОСПАТЕНТ
> Международная патентная классификация (IPC2015/G/G03F001.htm.01)
