|
|
G03F - Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей (фотонаборные устройства B 41B; светочувствительные материалы или процессы для фотографических целей G 03C; электрография, чувствительные слои или процессы G 03G)
| | Примечание: | В данном подклассе применяемым терминам придаются следующие значения: |
| | | | - "светочувствительный" - чувствительный как к электромагнитному, так и к корпускулярному излучениям; |
| | | | - "светочувствительные составы" - светочувствительные вещества, например хинондиазиды, и связующие или добавки, если таковые используются; |
| | | | - "светочувствительные материалы" - светочувствительные составы, например фоторезисты, подложки для них и вспомогательные слои, если таковые используются. [5] |
|
| | G03F 1/00 | Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление [3,2012.01
|
| | G03F 3/00 | Цветоделение изображения; исправление тональности негативов или позитивов (устройства для фотопечатания G 03B) |
| | G03F 5/00 | Растровые процессы; растры |
| | G03F 7/00 | Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей (использующие фоторезистные структуры для специальных процессов см. соответствующие подклассы, например B 44C,H 01L, а также рубрики, например H 01L 21/00,H 05K) [3,5] |
| | G03F 9/00 | Фиксация или размещение оригиналов, масок, растров, фотографических листов или рельефных или текстурированных поверхностей, например автоматически (7/22 имеет преимущество; подготовка фотографических масок 1/00; внутри фотопечатающих устройств для изготовления копий G 03B 27/00) [4] |
| |
ЕАПО >
РОСПАТЕНТ
> Международная патентная классификация (IPC2014/G/G03F.htm.01)
